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司特尔 TargetSystem
仪器简介:Struers TargetSystem专为研发和失效分析实验室的目标试样制备和其它高精度的试样制备而设计制造,系统精度为+-5微米。主要应用于包括微电子元器件、分层剥离和FA等需要进行微
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司特尔 TargetSystem
仪器简介:Struers TargetSystem专为研发和失效分析实验室的目标试样制备和其它高精度的试样制备而设计制造,系统精度为+-5微米。主要应用于包括微电子元器件、分层剥离和FA
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司特尔自动配料装置LaboDoser
仪器简介:自动配料装置,适用于LaboPol的无人照管试样制备。内置计时器和4个蠕动泵,用于金刚石悬浮液、润滑剂和DiaPro、DiaDuo等多功能产品的配料
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司特尔自动配料装置LaboDoser
仪器简介:自动配料装置,适用于LaboPol的无人照管试样制备。内置计时器和4个蠕动泵,用于金刚石悬浮液、润滑剂和DiaPro、DiaDuo等多功能产品的配料
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司特尔 TenuPol 电解制样设备
内置扫描功能确定适当的抛光电压。- 内置数据库 包括18种司特尔制样方法和多达200种用户自定义方法。- 自动停止 当试样出现穿孔时,红外光可以使磨薄过程自动停止。- 预磨薄 为避免大型试样的机械变形
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司特尔 TenuPol 电解制样设备
! - 扫描功能 通过内置扫描功能确定适当的抛光电压。 - 内置数据库 包括18种司特尔制样方法和多达200种用户自定义方法。 - 自动停止 当试样出现穿孔时,红外光可以使磨薄过程自动停止
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司特尔 AbraPlan-20 自动制备系统
仪器简介:Struers AbraPlan-20,司特尔开发的一款大功率平面研磨机,特别适用于试样尺寸极大或者数量很多的情况。典型研磨时间为20~30秒,可以迅速获得高品质表面光洁度
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司特尔 AbraPol-20 研磨抛光机
仪器简介:Struers AbraPol-20,司特尔开发的大功率研磨抛光机,特别适用于试样尺寸极大或者数量很多的情况。可变的制样盘转速和大尺寸盘面保证效率且节省耗材。内置数据库和配料
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司特尔磨抛机LaboPol-2/-1
仪器简介:单速(-1)或双速(-2)研磨和抛光机。特别适用于小批量制样的金相实验室,或者大批量制样实验室的补充设备。主要特点:- 使用简单方便; - 可以对研磨盘、精磨盘和抛光盘进行快速更换
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司特尔试样推进器LaboForce-3
仪器简介:试样推进器,用于LaboPol研磨和抛光机金相试样的半自动制备。工作速度为200/240 rpm(50/60Hz),设计用于1~3个试样的精密研磨和抛光。主要特点:- 使用简单方便
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